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3. 测试设置
瞬态热测试装置如图7所示,我们采用成熟的商业测试系统T3Ster来分析设备的结构并测量待测器件的瞬态温度响应。
图7.测试设备
样品置于一块液冷板上方,压紧力固定为3 bar,每个样品均施加325mA的固定加热电流,即大约26 W的功率加热。当设备达到热稳态的时候,把加热电流快速切换为测试电流并在这一过程中测试二极管压降。测试之前的加热时间至少持续480 s,然后再用480 s来捕捉冷却曲线,直到设备达到新的热稳态。
每个样品需要进行两次测试:一次在盖子和冷板之间涂上导热胶,另一次不涂。每次测试都采用NID方法转化为结构函数,且相应的测量值都能互相对比。基于此,我们便能采用一种近似于JEDEC JESD 51-14标准的方法来获取样品的Rjc(结壳热阻)。
4. Rjc仿真和测试
现如今热仿真软件已经广泛应用于IC封装器件热特性的预测。研发早期的热模拟有助于预测IC封装器件的热可靠性,还能给系统级热评估和优化提供重要参数。在很多情况下,热仿真甚至代替了耗时耗力的试验。本节中,我们将对flip-chip器件的重要参数结壳热阻Rjc进行纯数值研究。不过首先,我们先对比几种不同模型下的Rjc。
4.1 固定Rjc和浮动Rjc
建立一个简单的模型来研究不同边界条件的影响。固定Rjc模型,即在盖子(lid)的上表面设定一个定温边界,如图8所示。这种情况下,向盖子上表面方向的热传递只能是垂直或者出平面方向,而盖子平面上的热扩散很少。而浮动Rjc模型,则盖子上表面温度取决于冷板工况。温度计算由如下公式描述
Rjc = (Tj – Tc)/ Power
式中,Tc为散热片上表面中心的温度。
对于浮动Rjc模型,我们考虑两种方案。一种是采用内充冷水的冷板;另一种是用一块尺寸与冷板相同且上表面恒温的铜块。三种模型的边界条件设置如图8所示,通过CFD仿真计算可以得出所有方案的Rjc。
图8.Rjc模型的边界条件 — 定温&冷板&铜块
图9展示了三个模型的温度场仿真结果。
图9.结和壳附近区域的温度分布
表1则是由此计算所得的Rjc数据。可以看出,定温边界方案的结果要比冷板和铜块的高15~20%。冷板的方案是最接近真实情况,不过通过一系列的工况表明,铜块方案同样可以获得接近真实的Rjc数据,且相比冷板方案更加简单快速。
方案 |
Lid上表面温度 |
结温Tj |
壳温Tc |
结壳热阻Rjc |
定温 |
定值20℃ |
20.351 |
20 |
0.117 |
冷板 |
变化 |
21.712 |
21.422 |
0.097 |
铜块 |
变化 |
20.839 |
20.537 |
0.101 |
表1.Rjc数据
4.2 TIM的材料属性
除了上一节讨论的边界条件以外,TIM的材料属性同样非常重要且难以确定。通常的确定TIM有效导热系数的方法,是制作多个涂有不同厚度TIM的测试样品,通过测定样品的温度,可以得到导热性跟厚度的函数关系。该方法存在的问题是,由于测试数据的波动,导致很难拟合出热阻跟厚度的准确线性关系,且需要很多样品。
在我们这个案例中,TIM的厚度不能超过50 μm。所有TIM的厚度都控制在38μm左右,没有其他厚度的TIM来拟合该函数关系。因此,我们必须通过单一厚度的TIM来确定其导热系数。
图10.确定TIM有效导热系数的流程图
为达到此目的,我们设计了如图10所示的流程。首先,假设一个TIM的导热系数,通过仿真得出设备的Rjc,然后与测试所得Rjc对比。若差值(△)大于既定残差(S),则赋予其另一个导热系数的值并重复上述步骤,直至残差达到标准。在本次案例中,我们发现TIM的导热系数与供应商提供的数值并不相同。
以上提供了一种获取TIM导热系数的方法。需要说明的是,该方法是基于三维稳态热仿真,即不关注封装器件瞬态热特性。此过程中功率密度假设是均匀的,由此获取的Rjc数据在某些工业应用中已经足够精确了,不过从根本上讲该方法不符合采用瞬态方法的JEDEC 51-14标准。理论上,使用瞬态方法能提供更为详细的封装器件热特性。因此,在第5节中,我们将讨论瞬态方法。
4.3 Rjc测试
使用第3节提到的试验装置,我们得到如图11所示的测试结果—结构函数。在冷板和散热片之间涂上两种不同的导热材料,一种导热性好,一种导热性差。就Rjc来说,差距非常小不到0.2 K/W,两条曲线看起来彼此非常接近且分离点不清晰。
图11.结构函数图
为此,我们画出结构函数差值曲线,如图12所示。
图12.结构函数差值曲线
该点的Rjc是0.113 K/W。在实际的测试过程中,通常会测量多次取平均值,本例中该平均值是0.11 K/W。我们的数据显示不同次之间的测量结果差别非常小,由此也证明测试设备的准确性很高。
作者:Eric Ouyang, Billy Ahn, Robin Bornoff , Weikun He, Nokibul Islam,Gwang Kim, KyungOe Kim, Andras Vass-Varnai
2013 IEEE Semiconductor Thermal Management and Measurement Symposium
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