Expert 版图编辑器和检视器特征：

• 多功能版图编辑环境，用于模拟、混合信号、RF射频和数字版图，并集成了DRC/LVS/LPE和寄生参数提取功
能
• ExpertViews与Expert除了有些微的编辑能力差别之外，两者在功能上相同
• 可对超大型数据库的GDSII文件进行快速载入、编辑和检视
• 提供强大的脚本功能和C++ 应用程序接口 (API）， 实现设计自动化
• 与Calibre Interactive和Calibre RVE 相整合，用于产业标准格式的物理验证
• Expert节点探测功能（Node Probing） 可对节点进行加亮凸显，使其连接性更为直观。它还可加亮凸显出
与您所点击的对象电路相连的所有版图对象。
• Silvaco强大的加密功能可以用来保护客户和第三方的知识产权

高效多功能的版图编辑环境

• 可在短短几分钟内（决不是小时）快速载入超过10 GB的GDSII数据库
• 可通过多个层次在多个窗口进行版图的快速平移和缩放——附带用于跟踪的书签功能
• 与Guardian的DRC/LVS/LPE无缝集成， 用于实时、在线或批处理验证
• 实时DRC可随时快速验证版图
• 高效多功能的版图编辑环境，用于CMOS、BJT、BiCMOS、SiGe、GaAs、InP和其他众多独特工艺中的模拟、RF射频、微波和数字电路
• 可对全层进行多视窗编辑，包括布局编辑、分组、搜索，以及只需轻点鼠标的快速导航
• 是掩模创建和掩模修饰的理想之选
• 含可定制热键、菜单和命令行选项，便于命令调用

全定制热键、宏命令、工具栏、层、颜色和点画图案可从Virtuoso中直接导入，以提供版图设计师熟悉且高效的工作环境

易用性

• 全定制热键、宏命令和工具栏可依据版图设计师的个人喜好而设定成类似Virtuoso环境的外观和使用感受
• 晶圆代工厂（Foundry）的工艺设计套件（PDK：Process DesignKit） 可实现全新设计环境的 快速创建和启用
• 提供关于所有菜单和图标的内容丰富、轻松获得在线帮助
• 支持Linux和Windows平台，可在经济型工作站开展设计开发工作
• 安装简单，用户可自行设置环境，而无需咨询技术人员
• 提供跨平台的移动许可证系统
• 打印机和绘图仪的驱动程序选择广泛，附带基于纸张大小的多页窗口配置功能

与通用设计流程的互操作性

• 支持Dracula和Diva的DRC/LVS/LPE规则deck输入档

• 可直接读入Calibre错误信息报告，用于结果检视环境(RVE)
• 可从Virtuoso导入技术文件，用于层命名、颜色、点画法、可定制热键、宏命令和工具栏等
• 可导入含GDSII和CIF数据的旧有设计
• 支持Solaris,Linux和Windows(NT/2000/XP)，提供一致的用户界面。

强大的版图编辑功能

• 可使用JavaScript和LISA脚本和图形支持功能创建参数化单元(Pcells)
• 可通过强大的C++应用程序接口(API)使用所有编辑功能
• 进/出库管理器可使多个设计师同时工作于一个网络中的同一个项目
• 自动缩放和尺寸调整功能更大程度地便利了工程浩大的工艺移植

全角度特性：

• 可编辑放置成90度、45度或任意角度的电线和器件
• 附带任何角度的量尺，用于精确测量
• 支持分支层
• 命令行输入针对所有命令
• 支持现场编辑(edit-in-place)、分解图和扁平数据
• 数据安全选项可保存运行记录，用于撤销操作

功能灵活的编辑器可创建全角度多边形，可以为模拟、射频RF和微波电路编辑各种元件，包括形状复杂的电感器和功率器件，适用于CMOS、BJT、BiCMOS、SiGe、GaAs、SiC、InP、TFT及其他工艺技术。

实时DRC：

• 完全集成的实时Guardian DRC，贯穿于 整个Expert 编辑过程
• 在编辑版图时DRC违例将被自动标示出
• 在版图编辑过程中及时纠错，从而大大减少了最终的DRC验证
• 与Guardian DRC的规则设置相同

大容量：Expert只需短短几分钟（绝不用几小时）即可载入超过10GB的庞大设计，可快速平移和缩放超大型数据库，是掩模准备及布线器修饰的理想之选。

Expert 输入/输出